・下流域に効果的にラジカルを供給するマイクロプラズマを使用
・小型・低出力電源で安定したプラズマを発生
・最大出力50W未満のRF電源使用により面倒な設置申請が不要
・多彩なアプリケーションが可能な汎用エッチャー
・多重プロセスが実行可能
・下部ステージのXYスキャンで、ノズルプラズマの揺らぎをキャンセルし、
画内均一エッチングが可能
ミニマルファブは、従来の巨大で高額な半導体工場を、小型・低コストで実現した新しい製造システムです。
従来の半導体工場には数千億円規模の投資と大規模なクリーンルームが必要でした。
ミニマルファブなら、人間サイズの装置を組み合わせることで、試作から少量生産までを省スペースで行えます。
大学・研究機関・中小企業でも導入しやすく、次世代デバイスの研究開発や教育の現場で活躍しています。
マイクロプラズマでラジカル生成(石英管内)
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ガスの気流で活性化された
ラジカルがウェハ上に到着
↓
下部電極からのRFプラズマで
発生したイオンがラジカルと衝突
↓
Si基板表面でマイクロプラズマと
RFプラズマを重畳
↓
ケミカル反応が促進
| 型式 | MME-8100 |
|---|---|
| 装置寸法 | 294mm(W)×450mm(D)×1440mm(H) |
| 装置重量 | 約130kg |
| 試料ステージ | 2軸ステージ(X,Y) |
| ストローク：XY軸15mm | |
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機能：プラズマ加工中のステージスキャン ステージ冷却 |
|
| 筐体内搭載可能ガスボンベ | 0.35L(最大4本まで搭載可能) |
| 対応ガス種 | CF₄、SF₆、O₂、Ar |
| 対象ウェハ | ハーフインチウェハ |
| 対象材料 | Si、SiO₂、有機膜 |
